离子溅射仪（磁控）

离子溅射仪（磁控）

此款TZ-1000型小型磁控离子溅射仪主要用于SEM制样样品镀导电膜（如金膜）或材料镀膜，仪器，操作简单方便。采用磁控冷态溅射，基本不升温，大限度保护样品。

主要特点:
²  显示操作面为30°斜面，充分考虑操作的便捷和视觉体验，方便观察操作；
²  真空泵连接管路为金属波纹管，美观耐用；
²  微调阀调节灵敏准确，带有刻度标识；
²  真空泵抽速快，噪音低，适合实验室使用；
²  控制电路为控制板，工作稳定；
²  显示控制操作部分布局合理，位于同侧，使用方便；
²  磁控冷态溅射，基本不升温，大限度保护样品；

技术参数:
1.样品室空间：直径120mm×高110mm
2. Pt靶为标配，靶材尺寸：φ50mm×0.1mm
3.独立真空控制电路设计，实现真空度和溅射电流，安全互锁，可调大电流40mA；
4.侵入式磁控低温离子源，可快速换靶材，环绕暗区护罩；
5.使用独立计时控制器，计时，可调设置范围:1-500秒，连续可调
6.自动真空泄气功能，自动排气，可通过数字定时器进行控制
7.进口真空泵，抽速8.5m3/h，噪声不大于48dB,可置于抗震台上，全金属集成耦合系统
8.微型真空气阀：高精度微量流量阀，精度±0.1Pa