离子溅射仪（磁控） 离子溅射仪（磁控）
技术参数:
1.样品室空间：直径120mm×高110mm
2. Pt靶为标配，靶材尺寸：φ50mm×0.1mm
3.真空控制电路设计，实现真空度和溅射电流，互锁，可调电流40mA；
4.侵入式磁控低温离子源，可换靶材，环绕暗区护罩；
5.使用计|时控制器，可调设置范围:1-500秒，连续可调
6.自动真空泄气功能，自动排气，可通过数字定时器进行控制
7.进口真空泵，抽速8.5m3/h，噪声不大于48dB,可置于抗震台上，全金属集成耦合系统
8.微型真空气阀：微量流量阀，精度±0.1Pa
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