自动磁控离子溅射仪

自动磁控离子溅射仪

主 要 参 数
溅射靶头 低电压平面磁控溅射 输入电源 220V/100W（50/60Hz）
主机尺寸 260（L）×400（D）×365（H） 可用靶材 金、铂、银、铜、钯等
显示屏 7 英寸彩色触摸屏 靶材尺寸 φ57×0.12mm（标配）
真空室 ~φ130×130（H）mm 真空室材质 高强度石英玻璃
真空泵 旋片泵（可选配干泵） 抽速 1.1L/s
真空泵尺寸 445（L）x144（D）x217（H） 真空泵电源 220V/400W（50/60Hz）
真空规 皮拉尼真空规管 ji限真空 ≤1Pa
操作方式 一键操作（全自动） 样品台 Φ64mm
工作电流 5-45mA 连续可调 工作时间 1-999s 连续可调
保护功能 过流、真空保护 工作气体 空气/氩气
连接管路 不锈钢波纹管 管路规格 KF16/25—800（L）mm
膜厚仪 可实时监测控制镀膜厚度，设定范围 0-999nm，显示精度 0.1nm
靶材参数 内置 4 种常用靶材工作参数，同时预留 4 组参数，用户可自定义使用
其它功能 可记录靶材使用时间、仪器运行时间等参数，方便了解设备运行情况
选配件 行星转台、倾斜行星转台等