磁控溅射仪 磁控溅射仪
主机规格：300mm×360mm×380mm（W×D×H） 靶（上部电极）：金：50mm×0.1mm（D×H） 靶材：Au（标配） 样品室：玻璃腔体160mm×120mm（D×H） 靶材尺寸：Ф50mm 高真空度：≤ 4X10-2 mbar 大电流：100mA 定时器：数码计时 0-999S 镀膜面积：50mm 微型真空气阀：可连接φ3mm软管 可通入气体：多种 高电压：-1600 DCV 机械泵：标准配置2L/S（国产VRD-8） 冷却方式：冷水机（可根据实验具体要求自备） 速率：0--60nm/min
磁控溅射仪 磁控溅射仪 磁控溅射仪 磁控溅射仪 磁控溅射仪 磁控溅射仪 磁控溅射仪 磁控溅射仪 磁控溅射仪 磁控溅射仪 磁控溅射仪 磁控溅射仪 磁控溅射仪 磁控溅射仪 磁控溅射仪 磁控溅射仪 磁控溅射仪 磁控溅射仪 磁控溅射仪 磁控溅射仪 磁控溅射仪 磁控溅射仪 磁控溅射仪 磁控溅射仪 磁控溅射仪 磁控溅射仪 磁控溅射仪 磁控溅射仪 磁控溅射仪 磁控溅射仪
|
